При производстве золотых контактов для оборудования связи 5G традиционное гальваническое покрытие постоянным током часто приводит к образованию дендритов и пористости, превышающей 15%, что приводит к износу после 500 циклов вставки. Техническая команда Weiden Electronics инновационно применила процесс горизонтального импульсного гальванического покрытия. Благодаря точному контролю трех основных параметров они добились равномерного золотого покрытия на уровне микронов:
1. Оптимизированный импульсный рабочий цикл до 30%.
В течение цикла 10 мс 3 мс протекания тока следуют 7 мс перерыва (как показано на рисунке 1). Это позволяет своевременно восстанавливать концентрацию ионов металла на катодном интерфейсе, устраняя концентрационную поляризацию. Эксперименты показывают, что уменьшение рабочего цикла с 60% до 30% снижает пористость покрытия с 12,4% до 2,1% и продлевает срок службы при испытании в солевом тумане до 96 часов.
2. Пиковая плотность тока увеличена до 6 А/дм²
Мгновенный высокий ток ускоряет нуклеацию сверх скорости роста (рисунок 2), образуя нанокристаллические структуры. Анализ SEM показывает: при 6 А/дм² размер зерен золотого покрытия составляет 35 нм (по сравнению с 120 нм в традиционных процессах), микротвердость увеличивается с 120 HV до 200 HV, а износостойкость улучшается на 300%.

3. Технология контроля турбулентности электролита
Запатентованный компанией Widen многонаправленный генератор турбулентности (патент № ZL202310XXXXXX.X) стабилизирует скорость потока ванны на уровне 2,5 м/с, предотвращая удержание пузырьков водорода. В одном из случаев у клиента частота дефектов золотых контактов снизилась с 8,7% до 0,3%, что позволило сэкономить 1,2 млн иен в год на затратах на золото.
Фактическое производство требует скоординированного контроля:
• Температура гальванического раствора: 28±0,5 °C (обратная связь в реальном времени через датчики температуры)
• Концентрация золотой соли: 6,8±0,2 г/л (автоматическая система пополнения титрования)
• Значение pH: 4,2±0,1 (фосфатная буферная система)
Этот процесс был внедрен в массовое производство разъемов для базовых станций 5G компании Huawei. После 1000 циклов вставки/извлечения контактное сопротивление остается <10 мОм. Инженеры Weiden отмечают: импульсные источники питания должны работать в режиме постоянного напряжения, чтобы предотвратить дрейф параметров, вызванный импедансом линии. Технические подробности см. в специальном документе Weiden в журнале Electroplating & Finishing, выпуск 5, 2024 г.